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专利名称：清洗装置专利类型：发明专利发明人：山村英司
申请号：CN201710999225.6申请日：20171024公开号：CN108010867A公开日：20180508
摘要：提供清洗装置，其抑制异物的附着。清洗装置(1)具有：卡盘工作台(2)；旋转轴单元(3)，其具有轴承部(5)和轴部(4)，该轴承部和轴部将卡盘工作台支承为能够旋转；清洗流体提供喷嘴(6)，其对晶片(W)提供清洗液；清洗室腔体(8)，其形成清洗室；以及排气单元(9)，其将清洗室腔体的气氛气体排出，其中，清洗室腔体在底壁(812)具有开口(814)，旋转轴单元(3)的轴部(4)的前端从开口(814)突出，该旋转轴单元的轴部对卡盘工作台(2)从背面进行支承，在竖立设置于开口(814)的周围的内侧壁(833)上安装有密封部件(86)，该密封部件防止气氛气体从开口(814)向清洗室腔体(8)侵入，密封部件(86)具有安装于内侧壁(833)的环状主体部(861)和从环状主体部(861)延伸的延伸部(862)，延伸部(862)的上端与卡盘工作台(2)的背面接触。
申请人：株式会社迪思科
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
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