控制放射治疗的剂量输出[发明专利]
来源：华佗小知识
专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：控制放射治疗的剂量输出专利类型：发明专利发明人：戴维·J·康沃里申请号：CN99805389.9申请日：19990319公开号：CN1298317A公开日：20010606
摘要：本发明描述一种通过动态多薄片准直(MLC)产生离散的光束强度调制的算法,该算法结合了最小薄片允许间距的限制。当所有薄片对和后备光栏穿过场时,可同时为它们推导出MLC定位信息,而且一种反馈机制允许应用纠错措施以消除潜在的最小间距条件的违背和任何薄片企口间区域的曝光不足,由此产生的运动正确地输出了预期的调制而且可物理实现。该算法的结果可选择性地描述为定义一系列静态场以输出同一调制。
申请人：埃莱克特公司
地址：瑞典斯德哥尔摩
国籍：SE
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：张维
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