一种真空反应炉[实用新型专利]

来源：华佗小知识

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种真空反应炉专利类型：实用新型专利

发明人：戴永年,冯月斌,杨斌,杨部正,刘永成,徐宝强,刘大春,

郁青春,马文会,秦博

申请号：CN200920111773.1申请日：20090806公开号：CN201463534U公开日：20100512

摘要：本实用新型涉及一种真空反应炉，其包括升华管，发热片，水冷电极，炉壳，气体分布板，石墨发热体，反应坩埚，炉盖，真空抽气口，冷凝器盖，冷凝器，冷凝盘，隔热套，测温热电偶锥套，石墨发热体底座和炉底盖。低温冷凝区使用的冷凝器嵌入放置于反应坩埚上，冷凝盘嵌入叠放于冷凝器中。低温挥发区和高温反应区都采用自动控温。高温反应区使用石墨发热体电加热，两层石墨隔热体中间加碳毡作隔热套。本实用新型体积小，功率小，冷凝性气体产物集中冷凝在冷凝器中，便于产物的收集，减少了腐蚀性气体对炉壳的腐蚀。

申请人：昆明理工大学

地址：650031 云南省昆明市学府路253号

国籍：CN

代理机构：昆翔专利事务所

代理人：程韵波

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