溅射靶材及其制作方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201310375998.9 （22）申请日 2013.08.26

（71）申请人 宁波江丰电子材料股份有限公司

地址 315400 浙江省宁波市余姚市名邦科技工业园区安山路198号

（10）申请公布号 CN104419900A

（43）申请公布日 2015.03.18

（72）发明人 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;李小萍 （74）专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司

代理人 高静

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

溅射靶材及其制作方法

（57）摘要

本发明提供一种溅射靶材及其制作方法，

所述溅射靶材包括：靶材组件，具有溅射面以及围绕所述溅射面的密封面；密封槽，开设于所述靶材组件密封面上，用于容纳密封部件；多于4个的排气槽，开设在所述靶材组件的密封面上，所述排气槽与所述密封槽相连通，用于将所述密封槽内的气体排出。所述制作方法包括：提供靶材组件，并在靶材组件上加工溅射面以及围绕所述溅射面的密封面；在靶材组件的所述密封面上

开设密封槽，所述密封槽用于安置使所述靶材组件密封于沉积室中的密封部件；在靶材组件的密封面上开设多于4个排气槽，使所述排气槽与密封槽相互连通。本发明的优点在于提供足够的排气面积以排出所述密封槽内的截留气体，避免异常放电现象发生。

法律状态

法律状态公告日2015-03-18 2015-04-15 2017-05-31

法律状态信息

公开

实质审查的生效 授权

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权利要求说明书

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说明书

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