专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：阵列基板及其制备方法、显示器件专利类型：发明专利发明人：王祖强
申请号：CN201210311071.4申请日：20120828公开号：CN102832169A公开日：20121219
摘要：本发明公开了一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板中的有源层为微晶硅薄膜层，所述微晶硅薄膜层的形成过程为：在基板上连续形成非晶硅薄膜层和金属薄膜层，通过构图工艺制得由所述金属薄膜层形成的热传导层，然后进行激光晶化工艺，使所述热传导层正下方的非晶硅薄膜层成为微晶硅薄膜层，再将所述热传导层去除。本发明还公开了由上述制备方法制得的阵列基板及包括所述阵列基板的显示器件。本发明用激光晶化工艺通过热传导层对非晶硅实现晶化，具有成本低，稳定性高、均匀性高的特点；微晶硅形成的薄膜晶体管具有高迁移率、高稳定性等特点。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京路浩知识产权代理有限公司
代理人：韩国胜
更多信息请下载全文后查看
