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专利名称：一种阵列基板、显示装置和制作方法专利类型：发明专利发明人：王骏,黄中浩
申请号：CN202010663685.3申请日：20200710公开号：CN111769123A公开日：20201013
摘要：本发明公开了一种阵列基板、显示装置和制作方法，以改善现有技术在制作显示器的阵列基板时，需要多道掩膜工艺，存在制作工艺复杂的问题。所述阵列基板，包括：位于所述衬底基板一侧的第一金属层，所述第一金属层包括位于所述显示区的遮光部、源极和漏极；位于所述栅极绝缘层的背离所述有源层一侧的第二金属层，其中，所述第二金属层包括位于所述显示区的栅极、源极搭接电极和漏极搭接电极，所述源极搭接电极通过贯穿所述栅极绝缘层和所述缓冲层且暴露所述有源层一端的第一过孔与所述有源层和所述源极接触，所述漏极搭接电极通过贯穿所述栅极绝缘层和所述缓冲层且暴露所述有源层另一端的第二过孔与所述有源层和所述漏极接触。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人：姚楠
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