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基于非均匀计算的光强分布获取方法及装置[发明专利]

来源:华佗小知识
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:基于非均匀计算的光强分布获取方法及装置专利类型:发明专利发明人:阎江,梁文青

申请号:CN201811157268.0申请日:20180930公开号:CN109212913A公开日:20190115

摘要:本申请公开了一种基于非均匀计算的光强分布获取方法及装置,该方法包括:对频域上的光源函数和光瞳函数进行均匀采样,得到基于相交面积的光源采样矩阵和光瞳采样矩阵;对光源采样矩阵和光瞳采样矩阵进行非均匀傅里叶逆变换,得到交叉传递矩阵;确定交叉传递矩阵的频域核函数;建立频域上的掩模函数的采样矩阵和频域核函数的采样矩阵;根据频域上的掩模函数的采样矩阵和频域核函数的采样矩阵,通过非均匀傅里叶逆变换,获取用户指定位置上的光强分布。本申请中,由于采用基于相交面积的采样方法,提高了计算精度,同时,采用非均匀傅里叶逆变换,在相同的采样密度下,能够减小对光强分布的计算量,从而缩短计算时长,提高对光刻胶进行光刻的效率。

申请人:墨研计算科学(南京)有限公司

地址:210031 江苏省南京市江北新区星火路9号软件大厦B座407-80室

国籍:CN

代理机构:北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)

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