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专利名称：含有使用双酚醛的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形
成用组合物
专利类型：发明专利
发明人：远藤贵文,桥本圭祐,西卷裕和,坂本力丸申请号：CN201480025526.3申请日：20140508公开号：CN105209974A公开日：20151230
摘要：本发明的课题是提供用于形成具有蚀刻耐性与扭曲耐性，且对高低差、凹凸部显示良好的平坦化性、埋入性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，包含通过包含芳香族环的有机化合物A和醛B的反应得到的树脂，所述醛B具有至少2个具有酚式羟基的芳香族碳环基，且具有该芳香族碳环基通过叔碳原子结合而成的结构。醛B为下述式(1)。Ar和Ar分别表示碳原子数6～40的芳基。得到的树脂为式(2)。包含芳香族环的有机化合物A为芳香族胺或含有酚式羟基的化合物。还包含溶剂。还包含酸和/或产酸剂、交联剂。一种抗蚀剂图案的形成方法，用于半导体的制造，包含将抗蚀剂下层膜形成用组合物涂布于半导体基板上，并烧成从而形成下层膜的工序。
申请人：日产化学工业株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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