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专利名称：一种平面栅IGBT及其制作方法专利类型：发明专利
发明人：张金平,张玉蒙,田丰境,刘竞秀,李泽宏,任敏,张波申请号：CN201610414414.8申请日：20160613公开号：CN105932050A公开日：20160907
摘要：一种平面栅IGBT及其制作方法，属于功率半导体器件技术领域。本发明在传统平面栅IGBT器件结构的基础上，在器件JFET区表面的部分区域引入浮空p型区，所述浮空p型区与栅电极在垂直于MOS沟道长度方向形成间隔分布，器件正向导通时在JFET区通过垂直于MOS沟道长度方向上从栅极往浮空p型区方向的横向载流子扩散，本发明结构在不影响器件正向导通特性的条件下，减小了器件的栅极电容，特别是栅极‑集电极电容，提高了器件的开关速度，降低了器件的开关损耗，同时不会使器件的阻断特性劣化。
申请人：电子科技大学
地址：611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
国籍：CN
代理机构：成都点睛专利代理事务所(普通合伙)
代理人：葛启函
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