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专利名称：反应溅射系统腔体进气装置专利类型：发明专利发明人：王世宽
申请号：CN201910032347.7申请日：20190114公开号：CN109536901A公开日：20190329
摘要：本发明涉及一种反应溅射系统腔体进气装置，包括底座和进气管，底座安装在反应溅射系统的真空腔体上方，其中，还包括通气圆环和八个气嘴。本发明的优点在于：结构简单，制造和改装的成本低廉，通过改变进气方式，有效地降低气体分布不均匀对工艺的影响，解决特殊工艺对于镀膜均匀性的要求。
申请人：王世宽
地址：200131 上海市浦东新区加太路39号第三层25部位
国籍：CN
代理机构：上海东亚专利商标代理有限公司
代理人：董梅
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